مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

مقاله مقاله نشریه

مشخصات مقاله

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

967
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

253
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

بهینه سازی پارامترهای موثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن

صفحات

 صفحه شروع 25 | صفحه پایان 34

چکیده

 با توجه به مشکل ساز بودن دفع مستقیم پساب دارای آنتی بیوتیک ها به محیط زیست و بروز مشکل های جدی در محیط همانند مقاومت ژنتیکی, تصفیه پساب این صنایع از اهمیت ویژه ای برخوردار است. در این پژوهش افزون بر بررسی تصفیه پذیری یکی از پرمصرف ترین آنتی بیوتیک ها, اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن, قابلیت اکسایش و فتوکاتالیستی لایه آهن اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره های آهن نیز بررسی شد. ابتدا پارامترهای موثر در حذف اکسی تتراسایکلین توسط فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری بررسی و بهینه شدند که طبق نتیجه های به دست آمده در شرایط بهینه, از نانو ذره های آهن با غلظت 1000 mg/L برای حذف 155 mg/L اکسی تتراسایکلین در pH برابر 3, تابش UV با توان 200 W در مدت زمان 6.5 ساعت استفاده شد که مقدارهای حذف در طول موج های 290 و 348 نانومتر, TOC و COD به ترتیب 87, 95, 85 و 89 درصد به دست آمدند. پس از گذشت 14 ساعت, میزان همه این پارامترها بیانگر تجزیه کامل اکسی تتراسایکلین بود. همچنین طبق نتیجه آنالیز XRD, FeO و FeOOH, لایه اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره ها شناسایی شده و اثرهای مثبت فتوکاتالیستی آن در فرایند حذف توسط آزمایش های شاهد مورد بررسی قرار گرفت. بررسی اثر جداگانه هوادهی, پرتودهی فرابنفش و اکسایش توسط نانو ذره های آهن در تاریکی و مقایسه نتیجه ها با شرایط تلفیقی (نانو ذره های آهن در مجاورت تابش فرابنفش) نشان دهنده برتری فرایند تلفیقی در فرایند حذف بود.

استنادها

  • ثبت نشده است.
  • ارجاعات

    استناددهی

    APA: کپی

    حسن زاده، پریسا، گنجی دوست، حسین، و آیتی، بیتا. (1392). بهینه سازی پارامترهای موثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن. شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)، 32(1 (67))، 25-34. SID. https://sid.ir/paper/26245/fa

    Vancouver: کپی

    حسن زاده پریسا، گنجی دوست حسین، آیتی بیتا. بهینه سازی پارامترهای موثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن. شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)[Internet]. 1392؛32(1 (67)):25-34. Available from: https://sid.ir/paper/26245/fa

    IEEE: کپی

    پریسا حسن زاده، حسین گنجی دوست، و بیتا آیتی، “بهینه سازی پارامترهای موثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن،” شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)، vol. 32، no. 1 (67)، pp. 25–34، 1392، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/26245/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا
    telegram sharing button
    whatsapp sharing button
    linkedin sharing button
    twitter sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    sharethis sharing button