مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

1,446
Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

699
Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

لایه نشانی اکسید قلع به روش LPCVD

صفحات

 صفحه شروع 1 | صفحه پایان 6

چکیده

 در این مقاله یک سامانه ساده و کارا برای لایه نشانی اکسید قلع به روش LPCVD ارایه شده است. سامانه دارای ویژگیهای نوینی است که نشانش لایه های اکسید قلع را در یک محفظه بسته ممکن ساخته است. در طول فرایند لایه نشانی, سامانه ورودی ندارد و کنترل پارامترهای فرآیند لایه نشانی به آسانی میسر است. لایه اکسید قلع از ترکیب بخارهای کلرید قلع و آب روی زیر لایه شیشه ای در دمای 250°C تشکیل می شود. منبع پیش ماده داخل محفظه واکنش تعبیه شده است و تبخیر کنترل شده اجزا واکنش در داخل محفظه لایه نشانی انجام می شود. تنظیم فشار محفظه در محدوده Torr 50-10 توسط مجموعه ای متشکل از یک پمپ روتاری و سه شیر خلا, برای هر نرخ تبخیر ممکن گردیده است. کلیه پارامترهای مهم فرآیند شامل نرخ تبخیر, دمای زیر لایه, فشار محفظه, مدت لایه نشانی و نسبت اجزای پیش ماده قابل اندازه گیری و کنترل می باشند. میکروگرافهای SEM لایه های بدست آمده در محدوده ضخامت nm 400 – 50 مطالعه شده است. بدون اعمال آلایش, حداکثر ضریب هدایت سطحی لایه های اکسید قلع حاصل, □.moh 3- 10 است. در هدایت سطحی بیش از □.moh 4‑ 10, هدایت سطحی نمونه های نشانده شده با خطای 10%± تغییر قابل تکرار بود.

استنادها

  • ثبت نشده است.
  • ارجاعات

    استناددهی

    APA: کپی

    صدرایی، علیرضا، عروتی نیا، محمد، و حسین بابایی، فرامرز. (1385). لایه نشانی اکسید قلع به روش LPCVD. نشریه بین المللی مهندسی صنایع و مدیریت تولید (فارسی)(نشریه بین المللی علوم مهندسی)، 17(1)، 1-6. SID. https://sid.ir/paper/65885/fa

    Vancouver: کپی

    صدرایی علیرضا، عروتی نیا محمد، حسین بابایی فرامرز. لایه نشانی اکسید قلع به روش LPCVD. نشریه بین المللی مهندسی صنایع و مدیریت تولید (فارسی)(نشریه بین المللی علوم مهندسی)[Internet]. 1385؛17(1):1-6. Available from: https://sid.ir/paper/65885/fa

    IEEE: کپی

    علیرضا صدرایی، محمد عروتی نیا، و فرامرز حسین بابایی، “لایه نشانی اکسید قلع به روش LPCVD،” نشریه بین المللی مهندسی صنایع و مدیریت تولید (فارسی)(نشریه بین المللی علوم مهندسی)، vol. 17، no. 1، pp. 1–6، 1385، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/65885/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا