مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

2,116
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

1,252
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

بررسی مشخصه های الکتریکی AlGaN/GaN-HEMT با واردکردن لایه P در لایه سد در دو سمت سورس و درین

صفحات

 صفحه شروع 217 | صفحه پایان 222

چکیده

 در این مقاله, یک ترانزیستور HEMT گالیم نیترایدی با یک لایه نیمه هادی نوع P در لایه سد در هر دو سمت سورس و درین (SD-PL) مورد بررسی قرار می گیرد. مهم ترین پارامترهای الکتریکی این ترانزیستور را مانند خازن گیت- سورس, خازن گیت- درین, هدایت انتقالی, فرکانس قطع, میدان الکتریکی افقی, ولتاژ شکست, هدایت خروجی و جریان درین اشباع به وسیله نرم افزار دوبعدی اطلس شبیه سازی می کنیم. نتایج شبیه سازی شده در ساختار پیشنهادی با دو ساختار دیگر با لایه P در سمت سورس (SD-PL) و لایه P در سمت درین (D-PL) و ساختار مرسوم مقایسه می شوند. مطابق نتایج به دست آمده, ساختار پیشنهادی باعث بهبود خازن گیت- سورس, ماکسیمم هدایت انتقالی, فرکانس قطع و هدایت خروجی در مقایسه با ساختار D-PL می گردد. همچنین این ساختار جدید باعث کاهش ماکسیمم میدان الکتریکی در گوشه گیت سمت درین شده و در نتیجه, ولتاژ شکست را به میزان قابل ملاحظه ای در مقایسه با ساختار مرسوم افزایش می دهد. افزایش طول (LP) و ضخامت (TP) لایه P در ساختارهای SD-PL و S-PL باعث بهبود ولتاژ شکست, خازن گیت- سورس, خازن گیت- درین و هدایت خروجی خواهد شد.

استنادها

  • ثبت نشده است.
  • ارجاعات

  • ثبت نشده است.
  • استناددهی

    APA: کپی

    رضوی، سیدمحمد، ظهیری، سیدحمید، و حسینی، سیدابراهیم. (1396). بررسی مشخصه های الکتریکی AlGaN/GaN-HEMT با واردکردن لایه P در لایه سد در دو سمت سورس و درین. مهندسی برق و مهندسی کامپیوتر ایران - الف مهندسی برق، 15(3)، 217-222. SID. https://sid.ir/paper/228081/fa

    Vancouver: کپی

    رضوی سیدمحمد، ظهیری سیدحمید، حسینی سیدابراهیم. بررسی مشخصه های الکتریکی AlGaN/GaN-HEMT با واردکردن لایه P در لایه سد در دو سمت سورس و درین. مهندسی برق و مهندسی کامپیوتر ایران - الف مهندسی برق[Internet]. 1396؛15(3):217-222. Available from: https://sid.ir/paper/228081/fa

    IEEE: کپی

    سیدمحمد رضوی، سیدحمید ظهیری، و سیدابراهیم حسینی، “بررسی مشخصه های الکتریکی AlGaN/GaN-HEMT با واردکردن لایه P در لایه سد در دو سمت سورس و درین،” مهندسی برق و مهندسی کامپیوتر ایران - الف مهندسی برق، vol. 15، no. 3، pp. 217–222، 1396، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/228081/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا
    telegram sharing button
    whatsapp sharing button
    linkedin sharing button
    twitter sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    sharethis sharing button