مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

645
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

531
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

ارتقاء نانومتری صافی سطح ساچمه های سیلیکون نیتراید (Si3N4) با استفاده از پرداختکاری شیمیایی-مکانیکی (CMP)

صفحات

 صفحه شروع 253 | صفحه پایان 260

چکیده

پرداختکاری شیمیایی-مکانیکی (CMP), یکی از روش های پرداختکاری نانومتری ساچمه ها و ویفرهای غیرفلزی, مانند ساچمه های سیلیکون نیتراید و انواع سرامیک ها می باشد. در این فرآیند, ذرات ساینده (ZrO2, CeO2, Fe2O3) که سختی کمتری نسبت به قطعه کار دارند, در سیالی غوطه ور هستند. در همین حالت, قطعه کار با سیال پایه (آب, هوا, آب اکسیژنه و یا روغن) واکنش شیمیایی داده و یک لایه نازک سیلیکا (SiO2) روی سطح قطعه کار ایجاد می شود. برداشت لایه نازک اکسیدشده, توسط ذرات ساینده, در نتیجه این واکنش, به راحتی از سطح قطعه کار انجام می گیرد. عوامل موثر در پرداختکاری شیمیایی-مکانیکی شامل 1-غلظت ذرات ساینده, 2-سرعت دوران کله گی ماشین فرز, 3-زمان پرداختکاری و 4-نوع ذرات ساینده است که با تغییر هر کدام, عواملی مانند 1-زبری سطح, 2-کرویت و 3-نرخ براده برداری تغییر می کند. در تحقیق حاضر, برای پرداخت شیمیایی-مکانیکی ساچمه های سیلیکون نیتراید, دستگاهی آزمایشگاهی طراحی و ساخته شد و جمعا 24 آزمایش برای بررسی فاکتورهای ذکر شده بر صافی سطح قطعه کار و نرخ برداشت ماده, با نرم افزار Minitab, طراحی و انجام گردید. برای هر کدام از فاکتورها, دو سطح تنظیم شد و پس از آنالیز واریانس نتایج تجربی, معادله های رگرسیون برای صافی سطح و نرخ برداشت ماده بدست آمد. در آزمایش های انجام شده, با استفاده از هر سه ذره ساینده, با افزایش زمان پرداختکاری, سرعت دوران کله گی ماشین فرز و غلظت ذرات ساینده, میزان برداشت ماده بیشتر شده و کیفیت سطح نیز بهبود یافت. ریخت شناسی زبری سطح با استفاده از طیف نمائی پرتو ایکس مطالعه شد. هم چنین, امکان پذیری انجام واکنش های شیمیایی توسط معادله انرژی آزاد گیبس بررسی گردید. درنهایت, راه کارهایی برای پرداخت بهینه ساچمه های سرامیکی با توجه به شرایط آزمایشگاهی و آنالیز واریانس پیشنهاد شد. مقایسه نتایج تجربی نشان داد که زبری سطح ساچمه های پرداخت شده توسط ذرات ساینده Fe2O3 به مراتب بهتر از دو ساینده دیگر است(Ra= 69 nm).

استنادها

  • ثبت نشده است.
  • ارجاعات

  • ثبت نشده است.
  • استناددهی

    APA: کپی

    وحدتی، مهرداد، و عاملی کلخوران، سیدعادل. (1399). ارتقاء نانومتری صافی سطح ساچمه های سیلیکون نیتراید (Si3N4) با استفاده از پرداختکاری شیمیایی-مکانیکی (CMP). مهندسی مکانیک دانشگاه تبریز، 50(2 (پیاپی 91) )، 253-260. SID. https://sid.ir/paper/270178/fa

    Vancouver: کپی

    وحدتی مهرداد، عاملی کلخوران سیدعادل. ارتقاء نانومتری صافی سطح ساچمه های سیلیکون نیتراید (Si3N4) با استفاده از پرداختکاری شیمیایی-مکانیکی (CMP). مهندسی مکانیک دانشگاه تبریز[Internet]. 1399؛50(2 (پیاپی 91) ):253-260. Available from: https://sid.ir/paper/270178/fa

    IEEE: کپی

    مهرداد وحدتی، و سیدعادل عاملی کلخوران، “ارتقاء نانومتری صافی سطح ساچمه های سیلیکون نیتراید (Si3N4) با استفاده از پرداختکاری شیمیایی-مکانیکی (CMP)،” مهندسی مکانیک دانشگاه تبریز، vol. 50، no. 2 (پیاپی 91) ، pp. 253–260، 1399، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/270178/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا
    telegram sharing button
    whatsapp sharing button
    linkedin sharing button
    twitter sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    sharethis sharing button