مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

مقاله مقاله نشریه

مشخصات مقاله

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

434
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

550
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

تاثیر ولتاژ بایاس بر ساختار، مورفولوژی و سختی پوشش نیترید زیرکونیوم ایجاد شده به روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی

صفحات

 صفحه شروع 95 | صفحه پایان 101

چکیده

 در این پژوهش لایه های نیترید زیرکونیوم روی سیلیکون و فولاد زنگ نزن 304 با روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی پوشش داده شدند. تاثیر ولتاژ بایاس زیرلایه روی ساختار لایه ها, مورفولوژی و سختی مورد بررسی قرار گرفت. لایه ها بوسیله ی پراش اشعه ایکس, میکروسکوپ الکترونی روبشی, میکروسختی سنجی و میکروسکوپ نیروی اتمی آنالیز شدند. بر اساس الگوهای پراش اشعه ایکس, تنها پیک های پراش ZrN مربوط به صفحات (111) و (200) مشاهده شدند که با افزایش ولتاژ بایاس از 0 تا 150 ولت اندازه دانه ها از 19 نانومتر به 13 نانومتر کاهش یافتند. علاوه براین, مشاهدات میکروسکوپ الکترونی روبشی از سطح مقطع همه ی لایه های نیترید زیرکونیوم, ساختار ستونی را نشان دادند. همچنین تصاویر میکروسکوپ نیروی اتمی از سطح پوشش ها افزایش زبری سطح پوشش ها با افزایش ولتاژ بایاس را نمایش دادند. افزایش ولتاژ بایاس تاثیر مستقیم روی اندازه سختی پوشش ها داشت که برای نمونه با بایاس 100 ولت به اندازه بیشینه حدود 1720 ویکرز رسید. در ضمن اعمال ولتاژ بایاس تا یک حد بحرانی باعث افزایش تراکم لایه همراه با حذف تخلخل ها و افزایش تنش فشاری می شود و در صورتیکه مقدار ولتاژ بایاس بیشتر از 100 ولت اعمال شود, به دلیل افزایش احتمال پدیده کندوپاش مجدد, خواص مکانیکی پوشش افت می کند.

استنادها

  • ثبت نشده است.
  • ارجاعات

  • ثبت نشده است.
  • استناددهی

    APA: کپی

    معدنی پور، رضا، هاشمی نیاسری، مسعود، و مسعودپناه، سیدمرتضی. (1397). تاثیر ولتاژ بایاس بر ساختار, مورفولوژی و سختی پوشش نیترید زیرکونیوم ایجاد شده به روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی. مهندسی متالورژی، 21(2 (70 پیاپی) )، 95-101. SID. https://sid.ir/paper/401916/fa

    Vancouver: کپی

    معدنی پور رضا، هاشمی نیاسری مسعود، مسعودپناه سیدمرتضی. تاثیر ولتاژ بایاس بر ساختار, مورفولوژی و سختی پوشش نیترید زیرکونیوم ایجاد شده به روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی. مهندسی متالورژی[Internet]. 1397؛21(2 (70 پیاپی) ):95-101. Available from: https://sid.ir/paper/401916/fa

    IEEE: کپی

    رضا معدنی پور، مسعود هاشمی نیاسری، و سیدمرتضی مسعودپناه، “تاثیر ولتاژ بایاس بر ساختار, مورفولوژی و سختی پوشش نیترید زیرکونیوم ایجاد شده به روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی،” مهندسی متالورژی، vol. 21، no. 2 (70 پیاپی) ، pp. 95–101، 1397، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/401916/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا
    telegram sharing button
    whatsapp sharing button
    linkedin sharing button
    twitter sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    sharethis sharing button