مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

مقاله مقاله نشریه

مشخصات مقاله

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

488
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

190
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

مطالعه DFT اثرمیدان الکتریکی بر جذب برخی ترکیب های نیتروآروماتیک در سطح نانولوله روی اکسید

صفحات

 صفحه شروع 201 | صفحه پایان 208

چکیده

 در این پژوهش, نظریه تابعیت چگالی (DFT) برای مطالعه فرایند جذب مولکول های 2 و 4 و 6 تری نیتروتولوئن,  2و 4 دی نیتروتولوئن, تتریل و نیتروبنزن در سطح نانولوله روی اکسید (0‚ 8) و بررسی اثر میدان الکتریکی خارجی بر فرایند جذب آن ها مورد استفاده قرار گرفته است. داده های به دست آمده از محاسبه ها نشان می دهد که این مولکول ها به ترتیب با انرژی جذب 61.7-, 54-, 110.7- و 61.7- کیلوژول بر مول در سطح نانولوله جذب شده و سبب کاهش بیش از 0.5 الکترون ولت در شکاف انرژی نانولوله می شوند. با توجه به این نتیجه ها افزایش رسانایی سامانه که در نتیجه کاهش شکاف انرژی نانولوله طی فرایند جذب ایجاد می شود, می تواند به عنوان عاملی برای شناسایی مولکول های نیتروآروماتیک مورد مطالعه استفاده شود. با اعمال میدان الکتریکی بر ساختارهای جذبی مشخص می شود که با تنظیم شدت میدان الکتریکی در جهت مناسب می توان به مقدارهای مناسبی از انرژی جذب و شکاف انرژی در فرایند جذب این مولکول ها در سطح نانولوله روی اکسید دست یافت.

استنادها

  • ثبت نشده است.
  • ارجاعات

    استناددهی

    APA: کپی

    فرمان زاده، داوود، و طبری، لیلا. (1396). مطالعه DFT اثرمیدان الکتریکی بر جذب برخی ترکیب های نیتروآروماتیک در سطح نانولوله روی اکسید. شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)، 36(4 )، 201-208. SID. https://sid.ir/paper/516563/fa

    Vancouver: کپی

    فرمان زاده داوود، طبری لیلا. مطالعه DFT اثرمیدان الکتریکی بر جذب برخی ترکیب های نیتروآروماتیک در سطح نانولوله روی اکسید. شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)[Internet]. 1396؛36(4 ):201-208. Available from: https://sid.ir/paper/516563/fa

    IEEE: کپی

    داوود فرمان زاده، و لیلا طبری، “مطالعه DFT اثرمیدان الکتریکی بر جذب برخی ترکیب های نیتروآروماتیک در سطح نانولوله روی اکسید،” شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)، vol. 36، no. 4 ، pp. 201–208، 1396، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/516563/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا
    telegram sharing button
    whatsapp sharing button
    linkedin sharing button
    twitter sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    sharethis sharing button