چکیده: یکی از روش های موفق در حذف مقدارهای H2S از گاز طبیعی، تلفیق فرایندهای جذب (Absorption) و جذب سطحی (Adsorption) است. برای نیل به این هدف، از ذره های سیلیکاژل آغشته به حلال NMP استفاده می شود که دارای قدرت جذب بسیار بالایی هستند. با استفاده از نتیجه های آزمایشی جذب H2S در این گونه جاذب ها (آزمایش های انجام شده توسط Zhou و همکاران [[V) در این مقاله سعی شده تا نحوه توزیع NMP در درون حفره ها و مکانیسم انتقال جرم در درون حفره هایی که حاوی سیال دو فازی گاز- NMP هستند، تعیین شود. در این تحقیق، نشان داده شده که NMP به صورت یک سیال غیر خیس کننده در درون حفره ها قرار می گیرد. مکانیسم کنترل کننده انـتقال جرم نیز نفوذ H2S در درون حفـره ها (Pore Diffusion) تعیین شد. مدل ساختاری- سینتیکی ذکر شده می تواند ظرفیت بالای جذب H2S در این جاذب ها را به خوبی توضیح دهد. همچنین رفتار متفاوت و معکوس بستر جذب در مورد جاذب هایی با NMP کم تر از 10 درصد وزنی نیز توجیه شده است.