مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

مقاله مقاله نشریه

مشخصات مقاله

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

1,735
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

594
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

تعیین مدل سینتیکی جذب سطحی و مکانیسم انتقال جرم در فرایند حذف H2S به وسیله سیلیکاژل آغشته به حلال NMP در دمای 25oC و فشار 0.425MPa

صفحات

 صفحه شروع 1 | صفحه پایان 8

چکیده

 چکیده: یکی از روش های موفق در حذف مقدارهای H2S از گاز طبیعی, تلفیق فرایندهای جذب (Absorption) و جذب سطحی (Adsorption) است. برای نیل به این هدف, از ذره های سیلیکاژل آغشته به حلال NMP استفاده می شود که دارای قدرت جذب بسیار بالایی هستند. با استفاده از نتیجه های آزمایشی جذب H2S در این گونه جاذب ها (آزمایش های انجام شده توسط Zhou و همکاران [[V) در این مقاله سعی شده تا نحوه توزیع NMP در درون حفره ها و مکانیسم انتقال جرم در درون حفره هایی که حاوی سیال دو فازی گاز- NMP هستند, تعیین شود. در این تحقیق, نشان داده شده که NMP به صورت یک سیال غیر خیس کننده در درون حفره ها قرار می گیرد. مکانیسم کنترل کننده انـتقال جرم نیز نفوذ H2S در درون حفـره ها (Pore Diffusion) تعیین شد. مدل ساختاری- سینتیکی ذکر شده می تواند ظرفیت بالای جذب H2S در این جاذب ها را به خوبی توضیح دهد. همچنین رفتار متفاوت و معکوس بستر جذب در مورد جاذب هایی با NMP کم تر از 10 درصد وزنی نیز توجیه شده است.

استنادها

  • ثبت نشده است.
  • ارجاعات

  • ثبت نشده است.
  • استناددهی

    APA: کپی

    بقالها، مرتضی، و فتوت، فرزام. (1386). تعیین مدل سینتیکی جذب سطحی و مکانیسم انتقال جرم در فرایند حذف H2S به وسیله سیلیکاژل آغشته به حلال NMP در دمای 25oC و فشار 0.425MPa. شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)، 26(4)، 1-8. SID. https://sid.ir/paper/26234/fa

    Vancouver: کپی

    بقالها مرتضی، فتوت فرزام. تعیین مدل سینتیکی جذب سطحی و مکانیسم انتقال جرم در فرایند حذف H2S به وسیله سیلیکاژل آغشته به حلال NMP در دمای 25oC و فشار 0.425MPa. شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)[Internet]. 1386؛26(4):1-8. Available from: https://sid.ir/paper/26234/fa

    IEEE: کپی

    مرتضی بقالها، و فرزام فتوت، “تعیین مدل سینتیکی جذب سطحی و مکانیسم انتقال جرم در فرایند حذف H2S به وسیله سیلیکاژل آغشته به حلال NMP در دمای 25oC و فشار 0.425MPa،” شیمی و مهندسی شیمی ایران (فارسی)، vol. 26، no. 4، pp. 1–8، 1386، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/26234/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا
    telegram sharing button
    whatsapp sharing button
    linkedin sharing button
    twitter sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    sharethis sharing button