مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

مقاله مقاله نشریه

مشخصات مقاله

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

189
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

70
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

تاثیر مقادیر ولتاژ بایاس بر روی پوشش اکسید آلومینیوم به روش تبخیر واکنشی فعال شده بر روی فولاد ابزار T4

صفحات

 صفحه شروع 37 | صفحه پایان 46

چکیده

 پوشش اکسید آلومینیوم (آلومینا) بدلیل دارا بودن خواص متنوع مانند سختی بالا, مقاومت به خوردگی و سایش و داشتن خواص نوری خوب بطور گسترده ای در زمینه های مختلف بخصوص صنایع الکترونیکی و تزئینی مورد استفاده قرار گرفته است. در این تحقیق هدف ایجاد پوشش آلومینا بر روی فولاد ابزار T4 بوسیله فرآیند تبخیر واکنشی فعال شده و سپس بررسی مقادیر ولتاژ بایاس روی پوشش می باشد. بدین منظور نمونه ها در محیط پلاسما تحت زمان اکسیژن دهی 45 دقیقه, دمای زیرلایه С ˚ 800 و مقادیر ولتاژ بایاس0, 50 و 100 ولت توسط فرآیند تبخیر واکنشی فعال شده پوشش داده شدند. در نهایت جهت بررسی ساختار کریستالی توسط آنالیز XRD, ریزساختار و مورفولوژی لایه تشکیل شده توسط آنالیز SEM, جهت بررسی زبری پوشش از آنالیز AFM و همچنین جهت بررسی سختی سنجی پوشش از روش سختی سنجی ویکرز مورد استفاده قرار گرفت. نتایج نشان داد که هر چه ولتاژ بایاس زیرلایه بیشترباشد زبری پوشش بیشتر می شود. همچنین نمونه هایی که باردار شده اند (Biased) سختی بالاتری نسبت به نمونه هایی که باردار نشده اندرا دارا می باشند که این مطلب می تواند ناشی از متراکم تر شدن لایه ی تشکیل شده به علت جذب بیشتر یون های اکسیژن موجود در محیط پلاسما باشد.

استنادها

  • ثبت نشده است.
  • ارجاعات

  • ثبت نشده است.
  • استناددهی

    APA: کپی

    پولادوند، ایمان، تلخابی، علی، و اسماعیلی، علیرضا. (1399). تاثیر مقادیر ولتاژ بایاس بر روی پوشش اکسید آلومینیوم به روش تبخیر واکنشی فعال شده بر روی فولاد ابزار T4. نخبگان علوم و مهندسی، 5(3 )، 37-46. SID. https://sid.ir/paper/524945/fa

    Vancouver: کپی

    پولادوند ایمان، تلخابی علی، اسماعیلی علیرضا. تاثیر مقادیر ولتاژ بایاس بر روی پوشش اکسید آلومینیوم به روش تبخیر واکنشی فعال شده بر روی فولاد ابزار T4. نخبگان علوم و مهندسی[Internet]. 1399؛5(3 ):37-46. Available from: https://sid.ir/paper/524945/fa

    IEEE: کپی

    ایمان پولادوند، علی تلخابی، و علیرضا اسماعیلی، “تاثیر مقادیر ولتاژ بایاس بر روی پوشش اکسید آلومینیوم به روش تبخیر واکنشی فعال شده بر روی فولاد ابزار T4،” نخبگان علوم و مهندسی، vol. 5، no. 3 ، pp. 37–46، 1399، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/524945/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا
    telegram sharing button
    whatsapp sharing button
    linkedin sharing button
    twitter sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    sharethis sharing button