به منظور بررسی برهم کنش الکترومغناطیسی مولکولهای در داخل نانولوله، در ابتدا ساختار نانولوله B16N16 با تابع مرکب سه پارامتری B3LYP با استفاده از مجموعه پایه EPR-II بهینه شده است، سپس Cu, Cu+, Cu++ در نانولوله قرار داده شده است و برای سیستم هایΒ16N16-X (X=Cu, Cu+, Cu++)  ما خواصی مانند انرژی کل، انرژی شکاف نوار، پتانسیل الکتریکی و تغییرات انرژی شکاف برحسب انرژی کل و اندازه حرکت دوقطبی مورد مطالعه قرار دادیم. همچنین برای بررسی کردن خواص الکترومغناطیسی برهم کنش ملکولی داخل نانولوله، ما خواص رزونانس مغناطیسی هسته(NMR)  و پارامترهای پوششی را در بین نانولوله ها مطالعه کردیم.

در این پژوهش چندلایه ای های Ni-Cu/Cu از الکترولیت تک حمام سولفات/سولفامیت با استفاده از روش الکتروانباشت از دو محلول خالص بدون Co و ناخالص با 2/0 درصد Co در مد گالوانواستات-پتانسیواستات در پتانسیل انباشت بهینه شده Cu تهیه شد. اندازه گیری های مغناطو مقاومت در دمای اتاق برای چندلایه ای های Ni-Cu/Cu به عنوان تابعی از ضخامت لایه غیرمغناطیس Cu برای هر دو الکترولیت خالص و ناخالص انجام شد. منحنی های مغناطو مقاومت حاکی از مغناطو مقاومت ناهمسانگرد برای چندلایه ای ها در الکترولیت خالص و مغناطو مقاومت بزرگ برای چندلایه ای ها در الکترولیت ناخالص بود، طوری که بیشینه ی مقدار مغناطو مقاومت برای چندلایه ای Ni-Cu/Cu با ضخامت nm2/4/nm3 به دست آمد. بررسی ساختاری چندلایه ای ها توسط الگوی پراش اشعه ی ایکس انجام شد. الگوی پراش اشعه ی ایکس حضور قله های ماهواره ای که دلالت بر وجود ساختار ابرشبکه ای بود را تأیید کرد. ضخامت اسمی چندلایه ای ها nominalΛ با ضخامت حاصل از الگوی پراش اشعه ایکس XRDΛ مقایسه شد که همخوانی قابل توجهی داشت. مورفولوژی نمونه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی انجام شد که دلالت بر یکنواختی انباشت در حین فرایند لایه نشانی داشت. در نهایت مغناطش نمونه ها نیز با استفاده از مغناطوسنج نمونه مرتعش بررسی شد. نتایج نشان داد با کاهش ضخامت لایه ی غیرمغناطیس Cu وادارندگی کاهش و مغناطش اشباع افزایش می یابد.

در این پژوهش بس لایه های Co-Cu/Cu و Fe-Co-Cu/Cu بر روی زیر لایه شیشه /طلا به روش الکتروانباشت لایه نشانی گردید. ناهمواری های سطحی این لایه ها به وسیله میکروسکوپ نیروی اتمی بررسی شده و سپس با رسم نمودار ناهمواری سطحی بر حسب طول اسکن در مقیاس لگاریتمی نوع و اندازه ناهمواری های سطحی مورد محاسبه قرار گرفت. ساختار بس لایه ها توسط پراش اشعه ایکس مورد مطالعه قرار گرفت و پیک های مشخصه و ساختار بلوری لایه ها بدست آمد. رابطه بین ضخامت لایه های مغناطیسی و میزان درصد جرمی کبالت انباشت شده در هر دو بس لایه توسط آنالیز تفکیک انرژی پرتو ایکس بررسی شد. پس از آن اندازه و شکل دانه ها و رابطه آن با ضخامت و مواد سازنده بس لایه ها در هر یک از بس لایه های مغناطیسی توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی بررسی گردید. در نهایت خواص مغناطیسی بس لایه ها و منحنی پسماند آن ها در حالت موازی بر سطح مورد مطالعه قرار گرفت.

لطفا برای مشاهده چکیده به متن کامل (PDF) مراجعه فرمایید.

مقدمه: آیودی یکی از روشهای مفید و موثر پیشگیری از بارداری است. امروزه انواع مختلف آیودی در بازار موجود می باشد که رایج ترین نوع مورد مصرف در مراکز بهداشتی درمانی کشورمان نوع CU t 380A می باشد. بر اساس مطالعات انجام شده انواع جدیدتر آیودی از جمله نوع CU safe 300 موثرتر و کم عارضه تر از انواع قبلی است و به همین دلیل بسیار مورد پذیرش متقاضیان می باشد. مطالعه ای که توسط پژوهشگر و همکاران چهار سال پیش در این زمینه انجام شد نشان داد عوارض جانبی زودرس آیودی از جمله خونریزی، درد و دفع خود به خودی آیودی طی چهار ماه اول بعد از جایگذاری در انواع CU safe 300 بسیار کمتر از انواع CU t 380 A بود. مطالعه حاضر جهت مقایسه عوارض دیررس این دو نوع آیودی بعمل آمد شاید نتایج آن بتواند راهگشایی برای گسترش استفاده از این روش مفید تنظیم خانواده گردد.مواد و روش ها: این بررسی که یک مطالعه همگروهی است در آن 246 نفر از زنانی که طی چهار سال بصورت دو گروه (123 نفری) از آیودی CU safe 300 و CU t 380A استفاده نموده اند مورد بررسی مجدد قرار گرفتند. با استفاده از پرسشنامه وطی مصاحبه ای حضوری در مورد عوارض دیررس از جمله دفع خود بخودی و حاملگی ناخواسته، اطلاعات جمع آوری شد. در نهایت اطلاعات با استفاده از نرم افزار SPSS و آزمون مجذور کای وتی زوج مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت.یافته ها: نتایج مطالعه نشان داد آیودی CU safe 300 بسیار موثر تر و کم عارضه تر از انواع CU t 380A می باشد و مقایسه میزان شکست این دو آیودی با استفاده از آزمون تی زوج تفاوت معنی داری نشان داد. بحث و نتیجه گیری: با توجه به نتایج بدست آمده از این پژوهش و همخوانی با سایر مطالعات آیودی جدید CU safe 300 بسیار موثرتر و کم عارضه تر از آیودی های رایج است و توصیه می شود در صورت امکان جایگزین آیودی های قدیمی تر گردد و یا در کنار سایر انواع مورد استفاده قرار گیرد.

در این تحقیق فیلم های بس لایه ای فلزی Co-Cu/Cu با زوج لایه های نانومتری و با استفاده از روش الکتروانباشت در محلولی حاوی سولفات مس و سولفات کبالت بر زیرلایه بس بلور Ti با بافت های قوی (101) و (103) و (001) با مقادیر مختلف پارامترهای رشد مانند ولتاژ انباشت، ضخامت کل و دمای الکترولیت تهیه شدند. سپس نانو ساختار فیلم های تهیه شده توسط دستگاه پراش پرتویX و ریخت شناسی آن ها توسط میکروسکپ الکترونی روبشی مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج پراش X نمونه ها نشان داد که بس لایه ها دارای ساختار fcc با بافت قوی (111) می باشند. تصاویر SEM نمایانگر رشد ستونی Cu در نمونه ها است. همچنین در بس لایه هایی که تحت ولتاژ انباشتCo منفی تری رشد نموده اند، اندازه دانه ها و ارتفاع ستون های Cu کاهش می یابد. با ازدیاد ضخامت کل اثر نا هماهنگی شبکه ای بین لابه و زیر لایه کمتر مشاهده گردید. در نتیجه با افزایش دمای الکترولیت اندازه دانه های سطحی بس لایه های تولید شده و هم چنین میزان ناخالصی اتم های S در این بس لایه ها افزایش نسبی دارند.