مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

مقاله مقاله نشریه

مشخصات مقاله

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

video

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

sound

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

نسخه انگلیسی

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید:

903
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

دانلود:

711
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

استناد:

1

اطلاعات مقاله نشریه

عنوان

تاثیر شدت تابش فرابنفش بر حذف فتوکاتالیتیک اشرشیاکلی با استفاده از نانو ذرات تثبیت شده ZnO

صفحات

 صفحه شروع 149 | صفحه پایان 156

چکیده

 اهداف: فرآیند اکسیداسیون پیشرفته, از روش های متداول تصفیه فاضلاب است که طیف وسیعی از آلاینده های آلی و عوامل میکروبی را با کارآیی مطلوبی به طور کامل تجزیه می نمایند. این تحقیق, با هدف مطالعه اثر شدت تابش پرتو فرابنفش در حذف کامل فتوکاتالیتیک اشریشیا کلی به وسیله نانوذرات اکسیدروی تثبیت شده روی صفحات شیشه ای انجام شد.مواد و روش ها: ویژگی های نانوذرات اکسیدروی با استفاده از میکروسکوپ الکترونی مجهز به سیستم EDX و روشXRD  تعیین شد. نانوذرات اکسیدروی کمتر از 50نانومتر به روش حرارتی روی صفحات شیشه ای تثبیت شدند. نمونه های آب حاوی مقادیر مختلف باکتری اشریشیا کلی در راکتور نیمه پیوسته چرخشی با سیستم پیستونی در معرض شدت تابش های مختلف حاصل از لامپ های UVA و UVC مدادی 4 و 8 وات قرار داده شدند و اثر شدت تابش, مدت تابش, مقدار اولیه باکتری و شدت جریان راکتور در حذف فتوکاتالیتیک باکتری اشریشیا کلی مورد مطالعه قرار گرفت.یافته ها: افزایش شدت تابش پرتو فرابنفش, تاحدی کارآیی فرآیند فتوکاتالیتیک را افزایش داد؛ اما از آن حد به بعد, تاثیری بر کارایی فرآیند مشاهده نشد. افزایش فاصله لامپ از سطح آب در راکتور مورد آزمایش, باعث کاهش شدت تابش دریافتی و در نتیجه کاهش کارآیی فرآیند در حذف باکتری اشریشیا کلی شد. افزایش تعداد لایه های تثبیت شده نانوذرات اکسیدروی, تاثیری در افزایش کارآیی فرآیند نداشت.نتیجه گیری: فرآیند فتوکاتالیتیک با استفاده از نانوذرات تثبیت شده اکسیدروی تحت تابش پرتو UVA قادر به حذف باکتری اشریشیا کلی از آب با شدت تابش بهینه 240mW/cm2 به کمک دو لامپ 8 وات طی مدت تماس 30 دقیقه است.

استنادها

ارجاعات

  • ثبت نشده است.
  • استناددهی

    APA: کپی

    رضایی، عباس، معصوم بیگی، حسین، ختایی، علیرضا، و هاشمیان، سیدجمال الدین. (1388). تاثیر شدت تابش فرابنفش بر حذف فتوکاتالیتیک اشرشیاکلی با استفاده از نانو ذرات تثبیت شده ZnO. مجله پزشکی کوثر، 14(3)، 149-156. SID. https://sid.ir/paper/32755/fa

    Vancouver: کپی

    رضایی عباس، معصوم بیگی حسین، ختایی علیرضا، هاشمیان سیدجمال الدین. تاثیر شدت تابش فرابنفش بر حذف فتوکاتالیتیک اشرشیاکلی با استفاده از نانو ذرات تثبیت شده ZnO. مجله پزشکی کوثر[Internet]. 1388؛14(3):149-156. Available from: https://sid.ir/paper/32755/fa

    IEEE: کپی

    عباس رضایی، حسین معصوم بیگی، علیرضا ختایی، و سیدجمال الدین هاشمیان، “تاثیر شدت تابش فرابنفش بر حذف فتوکاتالیتیک اشرشیاکلی با استفاده از نانو ذرات تثبیت شده ZnO،” مجله پزشکی کوثر، vol. 14، no. 3، pp. 149–156، 1388، [Online]. Available: https://sid.ir/paper/32755/fa

    مقالات مرتبط نشریه ای

    مقالات مرتبط همایشی

  • ثبت نشده است.
  • طرح های مرتبط

  • ثبت نشده است.
  • کارگاه های پیشنهادی






    بازگشت به بالا
    telegram sharing button
    whatsapp sharing button
    linkedin sharing button
    twitter sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    email sharing button
    sharethis sharing button